DM67.CN服饰文博馆20210124期***

追赶成了中国的必选项，技术差距虽大，但星光犹在

IBM很好看PAS 5500，并且它即将花 10亿美元购入新的机器。两家公司交流许久，阿斯麦本打算向IBM展示PAS 5500的10个子系统，再史无前例地将所有模块组装起来，形成一台光刻机，好一举震住IBM，拿下订单。

1991年，受国际形势影响，IBM的美国员工无法乘坐飞机抵达荷兰。这个订单眼看要泡汤。

项目经理范登克林怒骂：“我们完蛋了，那些官僚不允许他们出差。”

阿斯麦用摄像机拍下预备向IBM展示的内容，然后通宵将视频内容剪出来，第二天一早乘飞机前往位于纽约州阿蒙克市公司的IBM，试图尽最后的努力拿下订单。

IBM的人被纪录片里这台可拆解的机器震撼了，“可拆解光刻机”能帮IBM省一大笔钱，当光刻机的一个零部件坏了以后，他们不需要将整台机器停产维修。

阿斯麦如愿签下了这个10亿美元的订单。

马里斯还擅长建立关系和沟通，为阿斯麦免于很多谈判摩擦。他会去三星那里，听客户公司刚满25岁的员工抱怨机器问题，并竭力解决这些问题。

此外，马里斯让阿斯麦和其“物镜系统”供应商蔡司的关系在1993-1998年得到长足发展。

“物镜系统”是阿斯麦光刻机的核心零部件之一，蔡司的镜头直接影响光刻机产品的效果。

蔡司成立于1846年，是德国的光学仪器厂商。当蔡司原大客户GCA因经营问题垮了以后，阿斯麦抓住机会成为蔡司该领域的大客户。

但蔡司一直采用传统手工生产，随着阿斯麦对镜头精度的要求提高，产品质量不稳定、产能不足的蔡司镜头，逐渐成为阿斯麦光刻机产品的瓶颈。

1994年，岌岌可危的蔡司，终于决定对产线进行自动化改造时。为了不让蔡司拖阿斯麦后腿，阿斯麦母公司飞利浦前后借给了蔡司3900万美元改造产线。自此，阿斯麦与蔡司形成深度合作关系。

此后，当蔡司出现服务其他公司迹象时，马里斯就会展现“外交才能”，要求蔡司只能向阿斯麦供货。

阿斯麦还拿下蔡司半导体光学部门24.9%的股权。

与供应商和客户建立了紧密联系的阿斯麦，在产品销售上也取得长足进步。1993年，阿斯麦盈利1100万美元；到1994年，其净利润超过2000万美元。

1995年，阿斯麦终于在美国纳斯达克和荷兰的阿姆斯特丹交易所上市，从成立算起，历时11年。

04 封神之战

美国是半导体的发源地，从晶体管到微处理器，再到DRAM（一种半导体存储器）和非易失性储存器，都是美国公司的产物。

20世纪60年代和70年代初，美国一直是芯片市场的霸主。但到80年代，日本凭借DRAM成功崛起。美国的光刻机产业随着半导体主要市场的变化遭受重击——GCA落寞，尼康壮大。

但美国并不愿意拱手将光刻机市场让出。

五角大楼的工作人员表示：“这是我们不能失去的东西，否则我们会发现自己要完全依赖海外制造者来指导对我们来说最敏感的东西。”

这种意识确实超前。

为了把最先进的技术留在美国，1997年，英特尔和美国能源部牵头成立了的EUV LLC联盟，希望能研发出EUV(极紫外线)光刻机，重拾半导体制霸权。

这个联盟有美国能源部及其下属三大国家实验室，还有英特尔和摩托罗拉、AMD、IBM等科技公司。

美国人还需要挑选一个光刻机公司加入联盟，尼康和AMSL都是不错的备选。美国人显然不可能选用崛起中的日本企业，给自己制造麻烦。

于是，较为弱势的阿斯麦成功入伙。

作为回报，阿斯麦将替美国把光刻机龙头的桂冠从尼康头上摘下。

阿斯麦用了两场战役，彻底将尼康踩在脚下。

第一个关键的技术节点是：阿斯麦与台积电工程师林本坚合作，用后者推崇的“浸润式光刻技术”突破固有的制程限制。

林本坚曾前往日本宣传该技术，但尼康等厂商并没有接受他的方案。当时市面上的光刻机都是干式的，没有谁用液体做光刻机。

2004年，阿斯麦和台积电合作一年后，推出了第一台浸润式光刻机样机，波长能达到132nm，率先攻克芯片制程卡顿，并一举拿下IBM和台积电等大客户的订单。

尼康虽然很快也推出了干式微影光刻机产品，但其光源只能做到157纳米，显然阿斯麦更胜一筹。

到2007年，阿斯麦的光刻机市场份额已达到60%，首次超过尼康。

而真正让阿斯麦封神的，还是独门的EUV（极紫外线）光刻机。

这项技术的突破，离不开强大的盟友们。

EUV联盟的几百位科学家，发表了大量论文研究EUV技术。身处其中的阿斯麦，能最先了解EUV最新研发成果，也拥有美国最领先的半导体技术、材料学、光学以及精密制造等技术的优先使用权。

作为交换，美国政府拥有对阿斯麦生产的监管权限。这也是为何今天美国会对阿斯麦有巨大话语权的原因之一。

EUV联盟在2003年认为理论工作已经完成，便在当年解散。所有的技术成果都由阿斯麦掌握，但直到2015年，阿斯麦才将EUV光刻机做到量产。

中间，因为美国顶级光源企业Cymer一直搞不定EUV所需光源的研发，阿斯麦就在2012年将该公司收购了，投入重金全力研发EUV所需的光源。

资金不足时，阿斯麦就从客户手里掏钱。

2012年，阿斯麦提出“客户联合投资计划”，拿出25%的股份邀请主要客户做联合投资，股东将拥有优先订货权。

英特尔、三星、台积电三家公司凑了52.29亿欧元，支持EUV光刻机的研发，分别拿下了15%、5%、3%的股份。

2020进博会：三星展示了最新5纳米EUV（极紫外光）工艺制作的晶圆

经过10年的研发，阿斯麦将EUV做到可量产，成为全球唯一一家具备推出光刻机产品的公司。

尼康其实也懂EUV技术，但直到现在，它的EUV光刻机只能在实验室跑起来。

自此，阿斯麦稳稳成为半导体光刻机领域的霸主，无可撼动。

05 中国的光刻机之路还很长

2021年1月20日，阿斯麦公布了2020年Q4和全年财报。

阿斯麦全年净销售总额为140亿欧元，约合1100亿元人民币；净利润35.54亿欧元，约合279.2 亿元人民币；毛利率48.6%。

要知道，2019年中芯国际的营收才201.79亿元人民币，净利润15.20亿元人民币，毛利率仅为20.6%。

2020年，阿斯麦全年共交付31台EUV光刻机，总价值354.29亿元人民币。

据接近阿斯麦的人士透露，阿斯麦的EUV光刻机(NXE3300)、(NXE3400)、(NXE3600)的价格分别在12.6亿、13.41亿、15.78亿元人民币左右。

比价高更让人头疼的，是没有货。

阿斯麦的EUV光刻机每年产能有限，到2021年，累计出货量才刚突破百台。这些光刻机有一半在台积电手里，另一半集中在英特尔、三星等大厂手中。三家公司2012年没有白给阿斯麦投钱。

而中国大陆，没有一台EUV。

光刻机有不同的制程，DUV（深紫外线）光刻机的光源波长为193nm，它可以帮助生产7nm及以上工艺的半导体芯片；但EUV（极深紫外线）光刻机的光源波长仅13.5nm，能生产7nm及以下工艺的半导体芯片。

苹果的A14芯片和华为的麒麟9000芯片，采用5nm工艺制造。

中芯国际刚完成7nm技术的开发，要到2021年4月才可以进入风险量产；而拥有EUV光刻机的台积电，已经实现5nm芯片的量产，且2021年第一季度将进入3nm风险量产。

现在，中国大陆目前只有上海微电子（简称“上微”）能生产光刻机，其最先进的光刻机能生产90nm芯片，这种制程无法满足当前手机、电脑等消费电子产品的需求。

据行业人士陈穰对市界透露：“目前上微的第一台193nm光源的浸没式光刻机已经在安装调试过程中，结合多重曝光工艺，有望实现最小28nm工艺芯片的生产。”

消息传出后不久，2020年11月，阿斯麦就带着7nm DUV光刻机亮相进博会，称可以向中国出口7nm DUV光刻机，无需向美国申请。

但最先进的EUV光刻机，仍然不会向中国出口。

目前，中国正通过国家02“极紫外线光刻关键技术研究”项目，联合多单位研发EUV光刻机。

与DUV光刻机相比，EUV光刻机制造的难度翻了数倍，内部零件多达8万余件，要两架波音737的货机才能运出来。光刻机有双工作台、光源系统、曝光系统、浸没系统、物镜系统、光栅系统等核心组件，每个零部件研发起来都极为复杂。

光刻机最难的是光源、晶圆曝光台、对准系统和镜头。国产光刻机涉及几十个学科的顶尖难题，需要将这些难题都钻研一遍。同时还得找到顶级的供应商。

阿斯麦90%的零部件来自外部采购，但这些零部件都是阿斯麦和供应商共同研发的，专利在阿斯麦手上。

物镜系统（镜头）是蔡司的，温控、光路修正系统等软件相关专利却是阿斯麦的。没有这些专利，即使国内厂商拿到蔡司的镜头，也没法发挥蔡司镜头的功效。

陈穰告诉市界，“如果从飞利浦子公司开始算起，阿斯麦近40年时间，形成了1万3000多项专利，并且不断的收购，投资和合作开发，打造了整个光刻机的核心部件供应商体系。现在阿斯麦又与蔡司合作开发了全球最大真空腔实验室，为未来1nm光刻机的量产做准备。”

顶级的光源，高精度的镜头和精密仪器制作技术是EUV光刻机三大核心技术，阿斯麦的光源来自收购的子公司Cymer；镜头来自深度绑定的蔡司；精密仪器则自身拥有多年的经验和专利积累。

20世纪60年代，中国也曾研究过光刻机，但在“造不如买”思想下，放弃了光刻机领域的研发。

回顾阿斯麦成为霸主的过程：高远的顶层规划，困境中的自身坚持，以及市场和技术的平衡，万中无一的运气，这些因素缺一不可。

追赶成了中国的必选项，技术差距虽大，但星光犹在。